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非标样品制备系统
非标PLD激光脉冲沉积系统
将高功率脉冲激光聚焦于靶材表面,使其因高温高压产生等离子体羽辉,定向局域膨胀发射,在衬底沉积形成薄膜
系统主要组成:脉冲激光器、光路系统、沉积系统、RHEED监测系统和控制系统
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商品详情
系统特点:
1、采用高光子能量和高能量密度的紫外脉冲激光作为能源
2、适用于制备复杂成分和高熔点的薄膜,可实现靶膜材料接近一致
3、生长沉积过程中可原位引入多种气体,可在反应气氛中制膜
4、易于制备多层膜和异质膜
5、兼容1至2in标准晶圆(Wafer)
6、Load Lock腔配备磁悬浮分子泵,可快速抽空
备案号:
京ICP备20032097号